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    光薄片和兩面光薄片的磨制

    文章出處:未知 人氣:-發表時間:2018-12-24
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    粗、細拋光操作一般的礦石光片只孺進行一次 拋光,某些硬而韌性的樣品則需粗細兩道拋光工序,才干達到 質最要求。
    粗拋光所用的盤面資料和拋光料有:橡膠,磨料為1-1.5 微米的氧化鋁或碳化硅及氧化鐵;帆布、磨料為氧化鐵或氧化飾;呢子,磨料為重銘酸錢加報化鉻。磨盤轉速均以400-600 轉/分為宜。
    細拋光的盤面資料和拋光料可選用:①金絲絨或棉布絨,磨料為重鉻酸按加氧化鉻;②橡膠,磨料為氧化鉻、重鉻酸鐵。
    用橡膠作粗拋光盤時,選用氧化鐵加少量重鉻酸鐵和水混合成的粗拋光懸浮體,效果也很好。粗拋光一塊光片的時 間一般不超越半分鐘至一分鐘。軟礦藏不籍經粗拋光而直接 進行細拋光,時間與粗拋光差不多。較硬的礦藏直接細拋光,則需1-2分鐘。金剛石、剛玉和紅寶石之類特硬資料的細磨 和拋光,需用金剛石研磨膏—金剛石微粉和油的混合物;油 可選用稀機油(機油和煤油混合)或甘油。遇水易溶的樣品用氧化鐵(或氧化鐵)加稀油混合物作拋光液,在橡膠拋光盤上拋光,其效果也很理想。
    拋光時樣品要不斷更換方位,并在盤上沿拋光盤平徑方向來回運動。高硬度礦藏可適當加力,加拋光料的次數也可頻頻些,約20秒鐘加一次。較軟的礦藏則要少加料輕拋光, 拋光盤上要堅持必定的水量,太枯燥時效果欠安。要避免粗砂混入,影響質量。
    上一個新聞:工業上首要被用作研磨資料中最堅固的碳化硅--金剛砂
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